-
2023-6-25真空炉的优点
-
2023-6-25真空热处理炉的操作流程
-
2023-6-25真空热处理炉进行安装和调试，具体要怎么做呢？
晶体生长设备
产品用途
用于黑磷单晶批量合成：
技术指标
工作温度：<800℃；
控温精度：±0.1℃×T%；
温场均匀性：±2℃；
单炉坩埚个数：30个；
工作压强：1.6MPa；
支持工艺定制.
产品优势
外压辅助提高石英坩埚生长黑磷单晶的安全性，竖式生长提高黑磷单晶转换效率，多坩埚生长提高黑磷单晶产量。
更多
资讯活动
