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材料后处理设备

氧气/一氧化碳气氛退火炉

文字:[大][中][小] 手机页面二维码 2023/6/28     浏览次数:    


产品用途
气氛退火炉,在纯氧/一氧化碳气氛环境下对晶体&陶瓷&玻璃进行高温退火处理,减小环境杂质,提高退火温度,进而降低氧空位、位错等缺陷密度,提高晶体光学质量;也可以在氧化/还原环境下改变离子价态。

技术指标
工作温度:1200℃&1650℃&1800℃;
控温精度:±0.1℃%×T;
温度均匀性:<3℃;
工作气氛:纯氧/一氧化碳;
工作区域:200mm×200mm×300mm,可定制;
额定功率:5.5KW;
额定电压:380V。


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