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CVD设备

CVD设备

文字:[大][中][小] 2023/8/22     浏览次数:    

产品用途:

采用开启式管式炉、多路质量流量计及低真空系统组成,设备可以抽真空通气体保护,也可洗高真空系统。此款系统广泛应用在半导体纳米材料、石墨烯、碳纤维领域。

 

 

 

技术指标

限高温度:1200℃

炉管:石英管径Φ25\30\50\60\80\100  (管径可选)

控温方式:智能化50段可编程模糊PID控制,具有超温和断偶报警功能。

质量流量计量程(N2):100sccm、200sccm、500sccm (量程可选)

工作压差范围:0.1~0.6 MPa

系统整体.限真空度:10-5Pa

支持工艺定制:工作区域及个数

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