晶体生长设备

竖直温梯冷凝炉

文字：[大][中][小] 2024/5/16 浏览次数：

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设备名称

竖直温梯冷凝炉/VGF炉

设备型号

VGF-XXBD-C2200-Ⅱ

设备用途

用于生长Ⅱ-Ⅵ（ZnSe、ZnTe、CdSe、CdS）、Ⅲ-Ⅴ（GaAs、InP）半导体晶体以及氟化物（MgF₂、SrF₂、CaF₂、LiF、LaF₃等）晶体

设备参数

工作温度

<2100℃

控温精度

±0.1℃×T%

温区长度

360mm+200mm

气氛环境

真空（5×10^-3 Pa）&Ar(<6.4MPa)

额定电压

AC220V/AC55V ， 50/60Hz

额定功率

12KW

控制系统

触摸屏/工控机，数显一体化智能控制

设备配置

加热元件

硅钼棒&石墨&钨钼

温场结构

非标

温控仪表

EUROTHERM3504温控仪

真空系统

真空泵&扩散泵&分子泵

热电偶

B型铂铑热电偶&钨铼热电偶&红外测温仪

机械结构

非标

设备优势

成熟的温控系统和温场结构，保证较高的控温精度和较强的抗环境温度波动干扰能力

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经典案例

设备名称	竖直温梯冷凝炉/VGF炉
设备型号	VGF-XXBD-C2200-Ⅱ
设备用途	用于生长Ⅱ-Ⅵ（ZnSe、ZnTe、CdSe、CdS）、Ⅲ-Ⅴ（GaAs、InP）半导体晶体以及氟化物（MgF₂、SrF₂、CaF₂、LiF、LaF₃等）晶体
设备参数	工作温度	<2100℃
	控温精度	±0.1℃×T%
	温区长度	360mm+200mm
	气氛环境	真空（5×10^-3 Pa）&Ar(<6.4MPa)
	额定电压	AC220V/AC55V ， 50/60Hz
	额定功率	12KW
	控制系统	触摸屏/工控机，数显一体化智能控制
设备配置	加热元件	硅钼棒&石墨&钨钼
	温场结构	非标
	温控仪表	EUROTHERM3504温控仪
	真空系统	真空泵&扩散泵&分子泵
	热电偶	B型铂铑热电偶&钨铼热电偶&红外测温仪
	机械结构	非标
设备优势	成熟的温控系统和温场结构，保证较高的控温精度和较强的抗环境温度波动干扰能力